| 暂存书架(0) | 登录

MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:64

题名/责任者:
三维电子封装的硅通孔技术/(美) 刘汉诚著 秦飞, 曹立强译
出版发行项:
北京:化学工业出版社,2014.7
ISBN及定价:
978-7-122-19897-6/CNY148.00
载体形态项:
390页:图;24cm
统一题名:
Through-silicon vias for 3D integration
丛编项:
电子封装技术丛书
个人责任者:
刘汉诚 (Lau, John H.)
个人次要责任者:
秦飞
个人次要责任者:
曹立强
学科主题:
微机电系统-电子器件-封装工艺
中图法分类号:
TN405
出版发行附注:
由John H.Lau博士授权出版
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书系统讨论了用于电子、光电子和微机电系统 (MEMS) 器件的三维集成硅通孔 (TSV) 技术的最新进展和可能的演变趋势, 详尽讨论了三维集成关键技术中存在的主要工艺问题和潜在解决方案。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN405/033 71943172  - 自然书库(3F东)     可借 现代技术部(1F)
显示全部馆藏信息
CADAL相关电子图书
借阅趋势

同名作者的其他著作(点击查看)
用户名:
密码:
验证码:
请输入下面显示的内容
  证件号 条码号 Email
 
姓名:
手机号:
送 书 地:
收藏到: 管理书架